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高温纯化设备
所属分(fēn)类：
该装备是将石墨制品、碳毡或SiC粉體(tǐ)等通过高温焙烧和工艺气體(tǐ)定向流动，经过物(wù)理(lǐ)扩散、化學(xué)反应使杂质元素从基體(tǐ)中排出，形成灰分(fēn)含量低（5ppmw）、金属含量降到PPB数量级，从而达到半导體(tǐ)晶體(tǐ)生長(cháng)对石墨品质（或粉體(tǐ)原料）要求的工艺过程。
产品描述
该装备是将石墨制品、碳毡或SiC粉體(tǐ)等通过高温焙烧和工艺气體(tǐ)定向流动，经过物(wù)理(lǐ)扩散、化學(xué)反应使杂质元素从基體(tǐ)中排出，形成灰分(fēn)含量低（5ppmw）、金属含量降到PPB数量级，从而达到半导體(tǐ)晶體(tǐ)生長(cháng)对石墨品质（或粉體(tǐ)原料）要求的工艺过程。
技术参数
最高温度： 2500℃ 常用(yòng)工作温度：2200℃
温度均匀度：≤±5℃ 仪表控温精度：±1℃
抽真空时间：≤120min
| 有(yǒu)效工作空间( mm) | 最高温度(℃) |
| 840-840-660 | 2200 |
| Φ1380-900 | 2500 |
| Φ1300-820 | 2500 |
| Φ1300-1050 | 2500 |
| Φ1400mm-1050 | 2500 |
| Φ1400mm-2000 | 2500 |
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